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清潔工程不僅要保障環境的清潔度，還應控制室內的溫度和濕度，以確保清潔工程的環境濕度一定，在規定的范圍內保持空氣處理過程，這應該使我們具備承擔這些費用。但是，為什么值得在清潔項目上花這么多錢來控制相對濕度呢？這很簡單！由于相對濕度會降低潔凈室的整體性能，因此包括以下幾個方面。

1.植物生長；在相對濕度超過60％的環境中，其他生物污染物（霉菌，病毒，螨蟲）也會繁殖。當相對濕度超過30％時，某些植物會生長。相對濕度在40％至60％的范圍內，其影響和呼吸道感染可以降低到相當低的水平。

2.清潔工程人員的室溫舒適范圍；40％至60％的相對濕度范圍也是人類舒適度的適中范圍。高濕度會使人感到悶悶不樂，而濕度低于30％會使人感到干燥，皮膚破裂，呼吸不適和情緒不適。

3.出現靜電；高濕度實際上減少了潔凈室表面和潔凈工程項目上的靜電荷積聚-這是理想的結果。較低的濕度更適合電荷積累，并成為潛在的破壞性靜電放電源。當相對濕度超過50％時，靜電荷開始迅速消散，但是當相對濕度小于30％時，靜電荷會在*緣體或未接地的表面上長期存在。35％至40％的相對濕度可以令人滿意地折衷。半導體清潔工程中，清潔室通常使用其他控件來限制靜電荷的積累。

4.金屬腐蝕；隨著相對濕度的增加，許多化學反應（包括腐蝕）的速率將增加。潔凈室周圍的所有暴露于潔凈工作的表面，即潔凈室周圍的空氣，都迅速被至少一層單層水覆蓋。當這些表面由可以與水反應的薄金屬涂層組成時，高濕度會加快反應速度。幸運的是，某些金屬（例如鋁）可以與水形成氧化物保護層，并防止進一步的氧化反應。但是在其他情況下，例如氧化銅沒有保護作用，因此銅表面在高濕度下更容易受到腐蝕。

5.水蒸氣的冷凝；在相對濕度較高的環境中，濃水的毛細作用在顆粒與表面之間形成鍵，這可以增加顆粒與硅質表面之間的粘附力。當相對濕度小于50％時，這種影響（開爾文濃度）并不重要，但是當相對濕度約為70％時，它是顆粒之間粘附的主要力量。

6.光刻技術的退化；迄今為止，光致抗蝕劑的敏感性一直是在半導體清潔工程和潔凈室中正確控制的迫切需求。由于光刻膠對相對濕度的敏感性，相對濕度的控制范圍非常嚴格。

在干旱季節，在清潔工程中，靜電和粉塵的危害直接導致清潔工程工業產品出現各種不良后果。現在通過使用工業加濕器將改善空氣濕度，即確保產品質量，使人感到舒適，靜電消失，因此，清潔加濕已成為凈化工程中環境控制的必要要求。